外差 光源 | 愛學習

干涉儀主要是結合Mach-Zehnder干涉儀和鎖相放大器(Lock-in amplifier)所構成.使用紅光He-Ne雷射(632.8 nm)為光源，及外差干涉儀的技術來作介電常數與導磁率量測的方法。 在 ...

由 李朱育 著作 · 2000 — 本論文是研究以電光調制器所調制出之外差光源，偵測各種系統所引入s與p偏光間相位差變化的應用；量測系統可分爲共光程與不共光程干涉儀兩類。根據所得到的相位差變化， ...

技術摘要：. 本發明為一種具有波長可調制光源模組之外差光產生裝置，其包括一調變單元，一波長可調制光源模組，及一雙折射晶體。本發明係利用調變單元產生並輸出一電流 ...

由於雷射二極體的光波波長可經由電流調變而受到. 調制，我們便利用這樣的特性，刻意製造不同光程的兩. 道雷射光，將其相互干涉後產生實驗所需的外差光源。 圖二為利用波長 ...

首先利用電光晶體調制雷射光，使之成為具有適當差頻的外差光源。接著以此外差光源量測各種系統所引入s- 與p- 偏光間的相位差變化，並根據相位差的變化來進行各種參數的 ...

由 陳英豪 著作 · 2018 — 本文是外差干涉原理結合共光程來量測液體折射率變化。共光程是利用偏極偏光鏡（polarizer）把一光源分成P偏振光(水平偏振光)與S偏振光(垂直偏振光)，而這兩道光再經過 ...

在干涉儀中，從單個光源發出的光會分為兩束，經不同光路（英語：Optical path），最終交匯產生干涉。所產生的干涉圖紋能夠反映兩束光的光程差。在科學分析中，干涉儀用於 ...

本發明係一種結合外差干涉術與剪切光柵干涉儀的位移量測系統。本發明包含有一外差光源模組與一剪切光柵干涉模組。一經過調制的外差光源經擴束系統後，一部分光束經過波片， ...

本研究利用氦氖雷射與電光調制器產生外差光源，經過準共光程光路設計聚焦至高密度光柵，當光柵產生位移將會引入相位變化至各階繞射光，並且使不同階數繞射光疊合產生干涉。

在本計畫中，我們結合表面電漿波共振與共光程外差干涉術之原理，提出了一個測量. 微小位移之高精確度光學外差干涉儀。此干涉儀由外差光源、壓電轉換器、表面電漿共振.